GC Pattern Resin Ls Toz 1 kg

Paketleme:
GC Pattern Resin Ls Toz 1 kg

PATTERN RESIN LS, Düşük Büzülmeli Modelaj Reçinesi

PATTERN RESIN LS, hem laboratuvar hem de klinik uygulamalarda
geniş kullanım alanına sahip, uzun yıllardır kendini kanıtlamış özel bir
modelaj reçinesidir.

Bu benzersiz modelaj reçinesi; yalnızca temel endikasyonlarda değil,
günlük iş akışında karşılaşılan birçok detay uygulama için de ideal bir
çözümdür. Tiksotropik yapısı sayesinde mükemmel akış ve kontrol
sunar; yüksek ıslanabilirliği karışımı ve uygulamayı son derece kolaylaştırır.

Kullanım Alanları

Geleneksel modelaj reçinelerinin kullanıldığı tüm uygulamalara
ek olarak; PATTERN RESIN LS aşağıdaki işlemlerde üstün sonuçlar sağlar:

• Özel ataşmanlar
• Konik ve teleskopik kronlar
• İmplant suprastrüktürleri
• İmplant transfer teknikleri
• Kron & köprü teknikleri
• İnley ve onley çalışmaları
• Parsiyel protezler
• Elektroforming tekniği

Avantajlar

• Düşük büzülme – Minimum büzülme, kolay
  şekillendirme ve yüksek uyum
• Yüksek sertlik ve dayanıklılık
• İnce tabakalarda dahi mükemmel stabilite
• Tamamen yanar, kalıntı bırakmaz – Temiz,
  pürüzsüz döküm yüzeyleri sağlar